低温触媒−高温除窒素型精製システム

この精製システムは自家製特許触媒を使用し、この触媒の使用寿命は長く、精製深さは高く、抗原ガスの瞬間変動能力は強い、物理吸着と化学反応プロセスを用いて、まず室温で不活性ガスと水素（H 2）中の大量の不純物H 2 O、O 2、CO 2を除去し、それから高温吸気塔を通じて残りの不純物とN 2を除去し、出口純ガス不純物を1 ppb以下に除去した。この設備は寿命が長く、操作が簡単などの特徴がある。

製品のパフォーマンス

◎99.999%純度以上の原気との併用に適している。

◎この製品はデュアル構造で、1組の作業、もう1組の再生予備

◎精製深さが高く、輸出各種不純物含有量＜1 ppb

◎電気化学研磨316（L）ステンレス鋼

◎0.003ミクロン高効率フィルター内蔵

◎この精製器には予備精製塔が配置され、貴重消費型吸気剤塔の前に大量の不純物を除去することで、貴重消費型吸気剤の使用寿命を延長することができる

製品の用途

◎高純度単結晶シリコン、ウェーハエピタキシー、大規模集積回路、光電製品の生産などの電子工業ガス端末の精製

◎半導体プロセス設備：CVD、MOCVD、HVPE、拡散炉など

◎バルクガス精製

システムパラメータ